根據日經報導,多位知情人士指出,台積電正逐步淘汰在最先進晶片廠中使用的中國製半導體設備,以避免因美國潛在限制而導致生產受阻。
報導指出,台積電的最新 2 奈米製程將於今年量產,首先在新竹啟動產線,隨後在高雄啟動,並計畫於美國亞利桑那州興建第三座工廠。不過,最新 2 奈米產線將不再採用中國製設備。
知情人士透露,這項決策與美國可能推出的新規有關。美國國會議員 Mark Kelly 提出《Chip EQUIP Act》法案,將禁止獲得美國資金或稅收優惠的晶片製造商購買來自「關注外國實體」的設備,外界普遍認為中國供應商將被納入其中。
在台積電較早期的先進製程產線中,仍使用部分中國設備,例如中微半導體的蝕刻機,以及已被中國資金收購的美商 Mattson Technology 的設備。
除了調整設備採購策略,台積電也盤點所使用的半導體材料與化學品,目標是降低對中國供應的依賴;同時,為符合中國政策導向,台積電在中國廠區內將加強與當地供應商合作。
前美國政府高級官員、半導體專家 Meghan Harris 表示,《Chip EQUIP Act》是國會最容易著手的行動之一,但由於部分產業反對,過去幾年推動並不順利。美國需要透過管制關鍵零組件的出口,防止中國自行研發半導體設備,並至少阻止中國設備廠進入美國晶圓廠,理想情況下,也應限制其進入其他市場。
另一方面,中國主要晶片製造商則持續提升本土設備的採用率。日經分析,曝光機仍由 ASML 主導,中國尚未開發出可行替代方案,但在其他製程中,中國廠商已展現顯著進展,如中國最大設備商北方華創已躋身全球第六大半導體設備供應商,僅次 ASML、應用材料、東京威力科創、科林研發以及科磊(KLA)。
對於是否在產線中使用中國設備,台積電並未正面回應,但強調「一如既往,台積電的全球採購策略聚焦於健全的風險管理系統,並透過與供應商的緊密合作,不斷發展多元供應解決方案,以實現供應鏈的多元化」。
(首圖來源:shutterstock)
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